二手 STS / CPX Multiplex ICP #9185200 待售
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ID: 9185200
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
Dry etcher, 8"
BOSCH Process
Handler
Chiller
Turbo pump
HF Generator
Carousel vacuum load lock
With ICP SR / HR process chamber
Pumps: No
EPD: No
Lower electrode PSU: No LF
Wafer flat size: Other
Clamp: WTC
Gas box: Mini
ASE Requirement: Switched licence
Voltage: 400V
Gases:
C4F8 100 sccm
O2 100 sccm
Ar 100 sccm
He 100 sccm
SF6 100 sccm
Multiplex ICP process chamber (MESC)
ICP 240BF Source
RF Supply: 1 kW (13.56 MHz)
Matching unit for ICP source
Generator: 5 kW
RF Supply: 300 / 30 Watt (13.56 MHz)
Matching unit for lower electrode
Electrode temperature control: +5 to +40°C
Mechanical wafer clamping electrode (Pin lift)
With backside cooling
LEYBOLD Turbo pump MAC 2000
Standalone VDU
Keyboard
Mouse
SOI Kit: No
CE Marked
1999 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP是一款先进的蚀刻/asher设备，利用多个单独的工艺来实现金属零件的高精度微加工。该系统由一个感应耦合等离子体源（ICP）和一个复用RF发生器组成，能够按顺序发射多个ICP源。ICP源配置为RF发生器在四个同步循环中发射,从而在腔室的大范围内提供连续的高功率等离子体流。ICP源具有广泛的频率范围，允许复杂的模式控制和更精确的表面蚀刻速率。ICP源还能够蚀刻更深的金属和涂层表面,并具有最小的变形和高产率。多路复用射频发生器包含多个通道，每个通道都能够向ICP源传递高功率脉冲。这提供了灵活的蚀刻环境以及极其均匀的蚀刻速率。多路复用射频发生器还允许ICP源之间的精确定时，使它们能够同步发射并最大化过程吞吐量。STS Multiplex ICP蚀刻/灰分单元已经被证明能提供高品质的薄膜沉积和各种金属基板的蚀刻，包括铜、铝、镍和钢。该机还能够蚀刻复杂的图桉和高精度的表面。此外，该工具还可用于使用金属粉末颗粒或碎片膜制造3D打印元件。CPX Multiplex ICP是一种用途广泛且可靠的蚀刻器/asher资产,能够为各种过程提供高质量、一致且控制良好的结果。它是一个可靠的解决方桉，既适用于微加工，也适用于3D打印应用，可用于金属和其他材料的高精度蚀刻。
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