二手 STS / CPX Multiplex ICP #9186435 待售
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STS/CPX Multiplex ICP是一种蚀刻器/灰化器，或一种使用XeF2和CF4反应性气体蚀刻或"燃烧"目标区域从基板上清除的设备。它专为深度反应性离子蚀刻（DRIE）或深度反应性离子灰化（DRIA）而设计,其小尺寸尺寸可达150纳米。STS Multiplex ICP作为一个单元同时执行蚀刻和灰度处理,具有很高的准确性和可重复性。它利用CF4和XeF2气体溷合物，将其输送到系统的蚀刻室或灰化室。腔室保持加压并充满气体溷合物，并使用高功率感应耦合等离子体（ICP）激发所得等离子体，使其蚀刻或粉刷底物。CPX Multiplex ICP具有多项优点。蚀刻率高，材料损耗低，表面均匀度高。它能够蚀刻各种材料，包括硅、氧化硅、石英和玻璃。此外,该单元设计用于深度可达150 nm的深层蚀刻,并且是可扩展的,这意味着可以在需要时添加额外的蚀刻或灰化室。机器也是用户友好的，可以设置在几分钟内蚀刻或ashing。该工具允许调整蚀刻和灰化时间、功率级别和气流设置,允许用户根据需要微调蚀刻或灰化过程。资产的软件界面还为用户提供了实时监控蚀刻或灰化结果的能力。总体而言，Multiplex ICP是一种易于使用且高度精确的蚀刻器和asher模型，能够进行深度蚀刻和灰化，具有高度的可重复性和可重复性。该设备适用于硅、氧化硅、石英、玻璃等基板的深蚀刻和灰化，具有可扩展的附加优势。
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