二手 STS / CPX Multiplex ICP #9243850 待售
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ID: 9243850
晶圆大小: 6"
优质的: 2001
Plasma etcher, 6"
ICP Process chamber
Chamber
Coil RF generator and matching unit
Electrode RF generator and matching unit (Platen)
Phase shift controller
VAT Isolation valve
Turbo pump
EDWARDS QDP40 Dry pump
Gas box
Cluster multiplex Prime Power Distribution (PPD) cabinet
Process chamber electronics
Materials processed: Si, SiO2, Al2O3, Ta, Ti
Process gases: CF4, SF6, Ar, O2, H2
Missing parts:
(2) Control modules
Exhaust pipe
Matching box
MAG / Phase detector
Load port
Power supply: 208 VAC, 60 Hz, 8.32 kVA, 3-Phase
2001 vintage.
STS/CPX Multiplex ICP是牛津仪器公司为各种半导体制造和实验室应用而设计的最先进的蚀刻/asher设备。该系统由一个专有的蚀刻反应堆和相关的计算机控制和软件构成。STS Multiplex ICP单元提供比市面上其他蚀刻系统更高的速率蚀刻，同时保持蚀刻轮廓和特性的必要控制和统一性。CPX Multiplex ICP机具有微波诱导等离子体（MIP）。MIP技术被证明是所有蚀刻系统中最统一的蚀刻。MIP工具产生极均匀的基板轮廓和特性，极低的离子轰击以及提供高重复性。该资产旨在容纳EF或直流电源,从而在应用程序过程中提供更大的灵活性。多重ICP模型还包括允许用户自动化蚀刻过程的软件。软件提供了在蚀刻过程中可以控制的多种参数，包括蚀刻时间、压力、温度和流量。此外，设备还采用了一个关断阀，确保在工艺完成后蚀刻停止。这样可以精确控制蚀刻过程并提高产品产量。STS/CPX Multiplex ICP设计用于各种实验室和生产应用，如沟槽隔离蚀刻、层压、细线金属化以及通过蚀刻等。它还提供了一个手套箱选项来处理腐蚀性气体。STS Multiplex ICP是一种高度通用的系统,可根据特定的蚀刻和沉积要求进行定制。该装置提供一贯的高品质蚀刻型材,低离子轰击,确保最佳设备性能.利用最新的数字技术和软件，用户可以编程一个无人值守运行的过程，使其简单的蚀刻高品质的基板具有非凡的均匀性和可重复性。
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