二手 STS / CPX Multiplex ICP #9303047 待售

STS/CPX Multiplex ICP是一种用于等离子体工艺应用临界控制的精密蚀刻和灰化设备。该系统最适合深蚀刻、高长宽比样品和介电堆栈以及纳米光刻任务。STS Multiplex ICP已被证明是疏水性结合涂层抗蚀刻、反侧氧化物去除、碳面膜蚀刻和选择性SiO2蚀刻的最佳解决方桉。其丰富的功能也使其成为焊料掩模、FEOL介电材料、纳米加工、多级MEMS和BioMEMS封装应用等离子体蚀刻和灰化的绝佳选择。在物理特性方面，CPX Multiplex ICP是一个高速、全区域的单元，配备了先进的过程监控工具。设计用于优化能量频率控制、多功率发电机、多级抽取功率控制和嵌入式PC控制器。其先进的工艺控制机使复杂而均匀的微结构能够快速高效的蚀刻生产。在性能方面，Multiplex ICP能够为腔室大气、电离、沉积和蚀刻速率等各种工艺参数提供最佳蚀刻结果。它具有独特的多功率发电机，具有独立的腔室控制，以确保对蚀刻和沉积过程的精确控制。它还有一个多级抽取功率控制工具，用于完全优化蚀刻工艺。在安全考量上，STS/CPX Multiplex ICP配备了安全罩。这种防护罩最大限度地防止意外接触紫外线辐射、化学和机械危险以及高电荷和危险等离子体。此外，该资产还配备了多种控制系统，如等离子体耐受警报、洁净室污染警报和射频发电机过流警报。最后,STS Multiplex ICP能够以合理的价格提供蚀刻和灰化应用程序的性能、质量和可靠性。它是一个多用途的解决方桉,适用于希望执行需要精确和准确的任务的行业和实验室。CPX Multiplex ICP具有高效使用和保护的能力,是寻求快速、经济高效地优化其生产过程的蚀刻器和分类器的绝佳选择。