二手 STS / CPX Multiplex ICP #9363067 待售
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STS/CPX Multiplex ICP（感应耦合等离子体）是一种为半导体材料加工而设计的蚀刻器/asher，精度和重复性都很高。它在涉及高长宽比蚀刻和阳极材料的广泛制造中提供单晶片蚀刻/灰分能力。STS Multiplex ICP系统配备了双射频波导和多个流程气体入口，流量高达600 SLM，允许用户在单次运行时应用优化的蚀刻和灰化条件。双源射频等离子体在整个基板表面形成均匀、平衡的离子能量分布和轮廓。CPX Multiplex ICP提供了一个独立的射频能量控制的单个射频源与双功率发电机操作。它支持一个基板最多两个腔室的配置，以方便膜具有多蚀刻或灰化步骤具有多种条件和气体。可以根据工艺要求定制此设备,以提供各种晶圆尺寸、厚度和材料。先进的内部屏蔽系统可确保射频能量均匀分布在基板上。该单元的用户友好软件提供了灵活的过程控制选项,使用户能够为每个蚀刻或ashing步骤自定义配方。超压/真空控制为腔室提供了可调、精确的压力控制和气动隔离,确保整个基板表面的过程简单可靠。为方便薄层、深沟、高长宽比通气和高密度通气的蚀刻和粉刷，Multiplex ICP提供了一个专利的平面化控制机（PCS）。这一技术允许对多层材料进行均匀蚀刻，并对深、高纵横比特征进行过度蚀刻。该工具具有广泛的蚀刻和灰化技术、卓越的均匀性以及可重现的薄膜效果,确保用户每次都能获得最高质量的输出。STS/CPX Multiplex ICP是大体积、精密蚀刻和灰化应用的完美解决方桉。
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