二手 STS / CPX Multiplex #293824464 待售

STS/CPX Multiplex是专门为半导体晶圆制造量身定制的等离子体蚀刻设备。这种通用工具可以处理各种各样的应用，从高密度光刻到低压氧化物蚀刻。STS Multiplex利用革命性的多级处理系统，对蚀刻气体成分和温度提供精确的控制，从而允许用户量身定制蚀刻参数，以满足其特定的工艺需求。CPX Multiplex由两个或四个独立、独立可控、具有真空能力的处理室组成。这使用户能够在蚀刻前使用CVD或溅射工艺对基材进行预处理，并进行钝化和沉积等蚀刻后处理。为了进一步优化处理条件,Multiplex还提供了连接到中央气体和真空实用程序的功能,使用户能够使用LabView界面自动控制气体浓度和温度。STS/CPX Multiplex提供三种不同的蚀刻方法。第一种选择是高密度、高温溷合气体等离子体蚀刻（CGP）。这种方法依赖于高浓度氧气，He，和Ar到底物的有效迁移，以创建活性价位点，并确保均匀均匀的蚀刻模式。第二个蚀刻选项是低密度、低温的臭氧蚀刻（OZ）。这种方法以受控的方式排放臭氧分子，以便制造"蚀刻口袋"进行更深的蚀刻。同时，第三个蚀刻选项是低温氧离子蚀刻（OI）。这种蚀刻方法在需要超浅蚀刻时使用，以及在寻求极一致的蚀刻深度时使用。这三种方法均采用高温防烟石英铃保护。此外，STS Multiplex单元还配备了最先进的安全传感器和实时监控，以确保安全可靠的蚀刻工艺。其中包括气体监测传感器、泄漏探测器、氧气传感器、速度监视器和温度监视器。此外，机器还包括内置晶圆处理工具，允许晶圆传输和加载。总体而言,CPX Multiplex是一种功能强大、用途广泛的蚀刻资产,允许用户根据自己的特定需求定制蚀刻过程。这使得它成为任何半导体光刻或深度蚀刻应用的理想选择。