二手 STS / CPX Multiplex #9071736 待售

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ID: 9071736
晶圆大小: 3"-8"
PECVD System, 6" Operating system: Window 98 Capable of 3"- 8" Currently depositing: SiO2, Si3N4 Single chamber loadlock Substrate size: Pieces up to 8" AE Low RF & high RF generator SMC Chiller for shower head Single vane pump for loadlock Pump / Blower package for chamber Gas lines: 2%SiH4 in N2 N2O NH3 N2 Cleaning gases: O2 CF4 208 VAC, 60 Hz, 3P, 5W ~1997 vintage.
STS/CPX Multiplex是一种为光掩模基板的高通量处理而设计的蚀刻/asher设备。它使用多重蚀刻/灰化技术来处理各种各样的应用要求,包括高宽高比(HAR)蚀刻/灰化、侧面蚀刻/灰化以及其他先进的工艺技术。该系统的设计具有稳定性、一致性和高吞吐量,能够在一次运行中处理多达200个样本。该装置的核心是一个高精度的双探头级,在严格的过程控制参数内运行,以确保重复和可靠的蚀刻/灰化结果。双探针提供极好的精度,允许进行广泛的工艺参数调整。该机还配备了集成扫描技术,可以让用户快速准确地生成适当的蚀刻/ashing蒙版。这显着有助于提高高精度过程的准确性和速度,减少周期时间并提高吞吐量。该工具先进的端点检测能力确保了对关键工艺步骤的准确监控,大大降低了过度和不足蚀刻/灰化以及污染风险。STS Multiplex使用低磨损技术处理多种材料,包括单层和双层光掩模,并在多个作业上提供一致的蚀刻/灰化结果。CPX Multiplex系统具有完整的数字控制,允许对所有适用的材料进行精确和统一的蚀刻/刻蚀,并降低操作员错误风险。这些系统还配备了可靠的端点检测功能,可实现准确的产品吞吐量和统一的结果。该资产包括一系列可选的硬件和软件功能,包括高分辨率实时温度监控、实时绘制蚀刻/灰化曲线以及集成的、用户友好的图形界面。该模型具有广泛的工艺参数,可根据具体应用进行调整,并同时应用,提供精确可靠的工艺控制。多重蚀刻器/asher系统兼容最新的蚀刻/灰化技术和材料,并与最先进的过程控制系统集成在一起。它坚固、功能齐全的设计为各种材料提供了高质量和可靠的蚀刻/灰化性能,其过程稳定性确保了对关键过程的监控和准确执行。该设备还提供最大的灵活性和多功能性,允许与各种应用程序要求和蚀刻/灰化材料兼容。该系统为用户提供了一个高通量、高度可靠的蚀刻/灰化过程,以满足最严格的应用程序的需求。
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