二手 STS / CPX Multiplex #9095065 待售
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ID: 9095065
晶圆大小: 3"-8"
优质的: 2001
RIE System, 3"-8"
Load lock
PC Controlled RIE process chamber
Power distribution cabinet
RF Rack
Remote gas box
Chiller
Includes:
LEYBOLD HERAEUS Ecodry L rotary pump
MESC RIE SC100M Process chamber
PC Controlled
Intellimetrics
End Point Detector (EPD)
Frame grabber
Electrode temperature control: +5°C to +40°C
Non-clamped electrode
ENI ACG3B RF Supply and matching unit, watt: 30-300 (13.56 MHz)
LEYBOLD Dryvac 50S dry pump
Electrode cooling:
BETTA-TECH CU500 chiller with DI water
Temperature range: +5°C to +40°C
Gas boxes:
Remote R/H Standard (2) PFC1 module
(4) Gas lines
(2) Non-corrosives
(2) Corrosive process gasses
Load lock with EMO
Operator panel with keyboard
Touchscreen lights
Buzzer
Panel for EPD
TFT Monitor, 18"
Multiplex atmospheric cassette system
MACS Module for automated wafer loading
(2) Cassette automatic modes
Manual mode / Cassette to Cassette
Manual wafer load
2001 vintage.
STS/CPX Multiplex是一种蚀刻器/asher，用于基板制备和其他类似的过程。它采用了基板转移设备（STS）和化学铂金交换（CPX）技术的组合，以产生能满足最严格要求的高分辨率模式。它能够对基材转移、抗条、钝化、化学-机械抛光、基材转移等过程进行蚀刻和灰化处理。STS Multiplex具有高精度、多向气体输送系统、高选择性离子束和可变功率设置。这种技术的组合提供了高分辨率的蚀刻和灰化结果，对基板的影响最小。可变功率设置允许对过程进行微调以适应客户的应用和需求,而高选择性离子束则提供精确的图样蚀刻和灰化。CPX Multiplex旨在以最少的浪费和较低的拥有成本实现最高质量的结果。这是通过单位的集中动力、先进的工艺和精确的控制机制来实现的。最重要的是,它还具有确保安全和可靠性的功能,例如收集灰尘、自动校准和热管理系统,这些功能有助于确保机器在所需参数内运行。Multiplex适用于工业和研究应用。它能够处理广泛的基材，并且可以与其他蚀刻器/asher系统串联使用。此外,它还能够处理大量有效载荷,并且可以将处理时间减少多达40%,从而提高效率并节省成本。总体而言,STS/CPX Multiplex是一种蚀刻器/asher,可为各种应用程序提供高分辨率的蚀刻和灰化解决方桉。它的技术结合提供了极少浪费的高精度结果，其先进的工艺和控制系统确保了安全性和可靠性。它能够处理大量有效载荷,从而缩短了处理时间,从而提高了效率并节省了成本,使其成为工业和研究应用的理想解决方桉。
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