二手 TEGAL 901e #75520 待售
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ID: 75520
晶圆大小: 4"
Plasma Etcher, rebuilt Cassette to Cassette, Polysilicon / Silicon Nitride
Currently configured for 4" wafers
ENI 1000 Watt 13.56 MHz RF Generator
20 Process recipe capability
Non-friction spatula pick and place wafer transport
Leybold D65 oxygen service pump
Tegal Closed loop temperature controller
Chart recorder for endpoint trace monitoring
DEC Monitor and keyboard
Manuals included
Facility requirements
200-240 VAC selectable (50/60hz) single phase
RF Generator 200-240 VAC selectable (plugs into 901e)
Monitor 115VAC (plugs into 901e)
Chart Recorder 115VAC (plugs into 901e)
Vacuum pump 200-230 VAC 3-phase
Temperature controller 115 VAC
CDA or N2 regulated to 80 +/- 5 psi
N2 regulated 15 to 30 psi
Process gas’s regulated to 15+/- 5psig (Regulators currently installed on table)
O2 clean regulated to 10+/- 5psi
901e Vacuum pump connection KF-40 Flange
901e Cabinet exhaust connection 4” 100 cfm.
TEGAL 901e是一款已成为半导体制造业重要工具的基准等离子体Asher/Etcher。由TEGAL Corporation开发的TEGAL 901 E是一款高效可靠的设备，可用于多种蚀刻和灰化工艺。901e由基座单元、电源、控制器、可调样品支架和腔室组成。901 E的基座单元由硬质铝合金制成，包括一个顶板和两个侧门。系统的电源使用的电压高达1,000V,最大电流为1,000 mA。电源可以配置为提供不同的电源配置文件,从而使TEGAL 901 e能够灵活地执行一系列的灰化和蚀刻过程。TEGAL 901 E的控制器允许方便的用户界面和对设备的控制，具有直观的图形用户界面和诊断仪器。样品支架是可调的，允许引进各种样品材料。腔室允许形成惰性气氛，从而最大限度地控制工艺环境。901e可用于蚀刻或作为两种材料表面,包括薄膜、金属、聚合物、半导体和电介质。该机器提供快速的加工时间,能够在几秒钟至几分钟内对样品进行蚀刻或粉刷,并且在完成后不会损坏材料。总之，901 E是一种高效可靠的多功能灰化器和蚀刻器。TEGAL 901e具有精确控制工艺环境和快速工期的能力，是半导体制造业的重要工具。
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