二手 TEGAL 901e #9016257 待售

TEGAL 901e是一种先进的高通量等离子体蚀刻器/ascher,专为制造光掩模、薄膜头和MEMS设备而设计。它采用了获得专利的脉冲激光诱导蚀刻技术，提供了传统蚀刻工具五倍的蚀刻速率。它可以实现高达25 μ m/min的蚀刻速率,并具有精确的特征边缘定义和最小的蚀刻损坏。脉冲模式特性允许用户控制蚀刻过程的深度轮廓，减少蚀刻材料的重新沉积。TEGAL 901 E由磁场限制电感耦合等离子体（ICP）源提供动力,该源针对各向同性蚀刻进行了优化,具有高均匀性、选择性和均匀性。ICP源在控制蚀刻选择性方面是精确的,可调节,调谐范围可高达500摄氏度,并可提供高达10 W的功率,具有很高的重复性和稳定性。901e为Ar、O2、N2等工艺气体提供独立质量流量控制器（MFC）和气体压力控制传感器（GPCS）的蚀刻和冷却气体输送的精确控制。901 E提供精确的等离子体蚀刻,腔室尺寸为450 x 400 x 450 mm3,样品尺寸可达3 x 3英寸（76 x 76毫米）。它具有全自动FOUP加载模块和光学密度检测系统.此外，TEGAL 901e具有低轴承等离子体和无懈可击的设计，提供卓越的污染控制和卓越的预期寿命。TEGAL 901 E是为高端半导体、光掩模和MEMS应用而设计的创新蚀刻工具。它提供了蚀刻的最高精度，蚀刻传递和参数的精确控制，以及用于污染控制的低轴承等离子体。它易于自动化、坚固且经济实惠,是制造和高端蚀刻工艺的完美工具。