二手 TEGAL 901e #9228768 待售
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TEGAL 901e是为生产规模的半导体製造而设计的蚀刻器/asher。它是制造高长宽比通硅通气（TSV）的有效解决方桉。这种蚀刻器/asher使用先进的蚀刻技术来产生具有高长宽比的非常深的vias，同时保持优秀的表面光洁度。TEGAL 901 E利用低温冷却环境蚀刻实现了对蚀刻时间和温度的精确控制。这样可以进行蚀刻,而无需再进行任何加工后处理步骤,例如研磨或抛光。通过采用选定的电偏置场来实现更高的蚀刻速率,还优化了吞吐量。这种蚀刻器/灰化器还通过允许可变应用湿蚀刻化学品以及不同的气体溷合物来降低成本，以提高蚀刻选择性并降低成本。901e还采用钝化硅烷等离子体解吸源（PDES）技术的可变几何设计,无需特殊蚀刻气体,可精确控制蚀刻剖面。这种设计还可以对高长宽比蚀刻的蚀刻速率进行精确的微调。它还允许精确设置晶圆温度，从而能够微调蚀刻速率和减少热应力。901 E还拥有先进的硬件配置,包括自动化的舞台系统和热板处理器。这允许精确执行蚀刻过程。该系统还完全可升级，以适应深层反应性离子蚀刻（DRIE）等高级蚀刻工艺。总体而言,TEGAL 901e是为生产规模的半导体制造而设计的先进、高效且经济实惠的蚀刻器/asher。其低温冷却环境蚀刻和选定的电偏置场,以及其创新的设计和先进的硬件,是使该蚀刻器/asher成为制造高长宽比通硅通气的理想解决方桉的关键特征。
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