二手 TEGAL 901e #9381612 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 9381612
晶圆大小: 3"-6"
优质的: 2001
Plasma etcher, 3"-6", parts machine
P/N: CS900-11590
(4) Gas input lines
P/N: 99-172-003/F IMN-3
Chuck, P/N: CW1109-41101
P/N: 99-142-003/A DIS-3
RF Delivery, P/N: CR1124-01002
P/N: 99-173-008/C RFG-8
P/N: 99-128-006
Gas delivery blank, P/N: CG1145-02001
RCTN Chamber, P/N: CC1106-01302
P/N: 39-342-001
Press vacuum with ATM sensor, P/N: CG1146-01302
Spatula Dr, 4", P/N: CW1078-40401
P/N: 99-207-004/K MBE-4
P/N: 80-095-278
P/N: 26-041-039C
Missing parts:
Control computer
Capacitance manometer
Mass flow controllers
RF Match unit
Vacuum pump
Manuals
Cords / Cables
Power supply: 200/208 V, Single Phase, 30 A, 50/60 Hz
2001 vintage.
TEGAL 901e是一种非常强大的蚀刻/灰化设备,专为晶圆加工操作的卓越性能而设计。此蚀刻器/asher系统是一个全自动的高通量单元,具有图形界面和嵌入式计算机,可在一个模块化软件包中提供过程控制和分析功能。该单元还提供了多种工艺蚀刻和灰化的基板如硅、FR4、的，和GaAs。TEGAL 901 E配备了120毫米的锁载室和负载端口，每批最多可容纳6个晶片，便于快速高效的晶片处理。此外，该室提供了广泛的选项，包括升华加热阶段，样品观察机，和质量流控制器。样品查看工具与全景成像相结合，可确保样品在蚀刻和灰化过程中的精确定位。901e的等离子体源基于多频ECR（电子回旋共振）技术。它能够产生从低到高的射频功率输出，允许各种蚀刻和灰化条件。等离子体源还配备了快速循环机制，以缩短工艺周期时间。901 E还设计为安全、节能，非常适合用于研究、试点线路和工业应用。利用全自动晶片处理资产和图形用户界面,TEGAL 901 e允许用户自动打印晶片映射和程序序列,从而简化了蚀刻和灰化过程。它使用户能够精确控制蚀刻参数，包括频率和功率、温度、压力和气体成分。此外,使用机器的软件,用户可以轻松监控流程进度并分析流程后的结果,从而确保结果可靠、可重复且一致。TEGAL 901 E为我们的客户提供了一种可靠、功能强大的蚀刻/灰化工具,可提供卓越的晶圆处理性能和运行期间的长期稳定性。紧凑的设计和直观的用户界面使晶圆处理更加容易和高效。此外,模型识别和监视过程参数的能力允许用户精确管理过程条件并维护产品质量。
还没有评论