二手 BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000 #9174090 待售
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已售出
ID: 9174090
晶圆大小: 4"-6"
优质的: 2011
Mask aligner, 4"-6"
Specifications:
Resolution:
1.25 um lines and spaces, UV-4 (340-440nm)
1.0 um lines and spaces, UV-3 (300-350nm)
Machine to machine overlay:
+/- 0.25 um, 125 / 100 mm systems, 98% of data
+/-0.30 um, 150 mm systems, 98% of data
Machine to itself overlay: +/- 0.25 um, 98% of data
Throughput:
120 Wafers per hour, 125 / 100 mm systems
100 Wafers per hour, 150 mm systems
Depth of focus: +/- 6 um for 1.5 um lines and spaces
Focus stability: +/- 2.0 um over 6 days
Focus range: +/- 200 um, +/-450 um
Extended bellows chuck:
Partial Coherence: Variable, 0.37 to 0.86
Numerical Aperture: .167
Uniformity of Illumination: +/- 3.0%
Particle generation: <7 Particles per wafer pass (1.0 um or larger)
Pre alignment and first-level placement accuracy: +/-15 um
Footprint: 18.65 Square feet (1.732 square meter)
Electrical: 120 Vac at 10 Amps, or 240 Vac at 5 amps
Includes:
Several spare parts
User manuals
2011 vintage.
BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY OS2000是一种先进的、工艺驱动的蒙版对齐器，设计用于超精确的微加工。它是一种图像成形设备，结合了先进的光学和精确的运动控制技术，在光致抗蚀剂层上创建图样。该系统用于在电子封装上定义电路特征,例如线宽,并为各种组件创建印刷电路板。BSL OS2000单元由光学、运动控制、精密对准和人体工程学控制四大子系统组成。光学工具由两束激光束组成，用来在光刻胶层上生成图样化的图像来创建所需的图样。运动控制设备利用多轴电机将激光束定位在精确的位置。精确对准模型利用闭环伺服维持激光束的精确位置。这样可以确保在光致抗蚀剂层上精确创建阵列图像。符合人体工程学的控制设备设计为确保用户舒适性，具有可调的用户界面和符合人体工程学的控制。BETA平方光刻OS2000提供出色的分辨率和准确性。它可以达到高达50 nm的模式分辨率,并且可以精确地再现精细的孔径和关键特征。该系统还提供高水平的线性度,以实现对原始设计的高保真度。此外，该单元可以在从标准可见光到紫外线波长的广泛能量范围内运行，并且具有可调波长范围。该机器具有可重复性，以确保生产质量控制和吞吐量。OS2000是半导体和印刷电路板制造的理想选择。它将最新的微加工技术与最高精度水平相结合，安装和使用方便。它的高级自动化功能可以减少与掩码对齐器操作相关的成本和时间。此外，它具有很高的可靠性，并产生一致的结果。
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