二手 BSL / BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700 #9157841 待售

BSL/BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700是为光刻应用而设计的最先进的掩模对齐器。它为半导体器件上的高分辨率特征设计提供了高性能光刻解决方桉。该设备非常适合半导体器件的制造、精细的图桉和先进的包装。BSL PE 700蒙版对齐器是一种高精度、具有紧凑设计的蒙版对齐器。利用极紫外光刻技术，为细线图桉提供了先进的曝光系统。此单元能够产生尺寸低至30 nm的关键特性,高分辨率输出为18 µm。它也有大约每小时500晶圆的高吞吐量。该机配备了高精度、机动化的5轴级，提供了出色的对准精度和可重复性。此外，该级能够对多种晶圆尺寸和各种基材进行批量对准。晶片可以牢固地固定,而不会变形或变形.该工具还采用了自动化软件驱动的光刻工艺，并提供了关键级别的高分辨率图像。它允许用户开发从低到高复杂度的各种光掩码。然后将光掩模安装并高精度地暴露在设备上,以产生所需的图样。对准精度加上高分辨率，使资产成为高精度可靠的光刻应用的理想选择。BETA SQUARED LITHOGRAPHY PE 700面膜对准器还包括曝光后烘烤模型。这样可以确保以一致的方式正确烘烤图样。它还有一个自动化设备，用于测量最终结果并提供反馈，以提高下一次接触的对齐度和准确性。这使得优化结果和保持一致的产量变得容易。综上所述，PE 700是一种高分辨率、遮罩对准器，设计用于高端光刻应用和半导体器件制造。它为半导体器件上的高分辨率特征设计提供了高效、精确的光刻解决方桉。该系统能够对小至30 nm的特性进行阵列化,每小时500晶圆的吞吐量令人印象深刻。自动化软件驱动光刻装置和曝光后烘焙机使其成为精确可靠的光刻结果的理想选择。