二手 QUINTEL Q4000-4IR #9132217 待售

QUINTEL Q4000-4IR Mask Aligner是制造先进微电子元件的强大工具,例如集成电路、MEM和Bio-MEMS。Q4000-4IR是一种四合一离子束光刻设备，提供正负光抗蚀剂曝光、光掩模图桉和掩模对准。QUINTEL Q4000-4IR专为多种研究和生产应用而设计，如MEM、柔性电子、生命科学和纳米技术。该系统具有高度的精确度和精确度,能够处理超细特性。Q4000-4IR具有获得专利的双离子源设计,可提供更大的灵活性和成本节约。双离子束能够准确地将正离子和负离子输送到光刻胶中。QUINTEL Q4000-4IR还具有高功率激光器和多维离子束遮罩对准单元（MBMAS），用于精确遮罩对准。集成的电子炮室可以快速高效地处理大型基板。Q4000-4IR的光刻曝光机能够将图像图样直接打印到光刻胶，分辨率高达4 um。高灵敏度的光掩模对准工具能够提供关键微电子元件所需的高分辨率对准。Laser Align+资产允许快速、方便地调整光掩模与裸露层的对准，消除了显微镜下耗时的调整。QUINTEL Q4000-4IR配备了一系列安全和控制功能,以确保最佳性能。受控环境室在受控环境中保持Q4000-4IR,并提供压力和温度控制选项。优越的安全和诊断模型可以方便设备的维护和操作,以及快速的故障识别和解决。QUINTEL Q4000-4IR Mask Aligner旨在满足当今先进的电子和光学公司需求。其强大的特性、精确精确的对准以及卓越的安全性和诊断特性使Q4000-4IR成为制造先进微电子元件和半导体器件的理想选择。QUINTEL Q4000-4IR的多功能性确保了无论客户是生产大容量系统还是原型系统,都可以依靠其准确性和可靠性。