二手 QUINTEL Q4000-4IR #9133885 待售
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ID: 9133885
优质的: 2009
Manual aligner
Substrate size from pieces to 100mm diameter
Manual X, Y and theta alignment stage
Vacuum / Pressure contact
Exposure modes
Manual tray loading feature
Splitfield / Singlefield optical microscope
Simple topside mask loading
Infrared (IR) back side alignment
UV / NUV Exposure optics
Carousel loading
CCTV viewing
2006 vintage.
QUINTEL Q4000-4IR是半导体工业中用于制造集成电路(IC)制造中的光掩模的精密掩模对准器。它具有紧凑、四板的设计和25微米的位置精度,非常适合高精度、高容量的光掩模生产。Q4000-4IR具有25微米特征定义,具有固定特征和可变形状特征。对齐器能够创建四个对齐板,允许光掩模在单个过程中曝光。对齐器的X和Y轴可以独立移动,提供卓越的配准精度。对准器的高速曝光由高度先进的数字精密执行器精心控制,具有精确的速度和步长控制。这样可以确保每次曝光都是完全一致的。QUINTEL Q4000-4IR具有强大而直观的基于软件的自动化系统,易于使用和编程。它可以被编程为自动对齐印版和曝光照片面罩。运算符界面允许通过易于理解的图形菜单来控制所有函数。它符合GDSII/DXF Photomask标准。Q4000-4IR具有LED光源,它稳定、可靠、节能且持久。光源提供高亮度荧光,使曝光速率比传统电子束光源快。该机还具有保持最佳真空的真空室系统,消除图像失真。这种高科技的掩码对齐器提供了出色的均匀性和吞吐量,从而可以在更短的时间内生产高分辨率的光掩码。QUINTEL Q4000-4IR是定制和复杂的光掩模制造的理想选择,提供精确、快速、经济的操作和优异的效果。
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