二手 QUINTEL Q4000 IR #9258221 待售

QUINTEL Q4000 IR是专门为光刻设计的最先进的面膜对齐器。它在为包括微电子电路和光学元件在内的一系列应用制作精制图样方面效率很高。它的许多特性和功能（包括即时校正和快速激光曝光）,提供了灵活性,可帮助用户快速、精确地生成所需的图桉。该机采用传统的包装盒设计，内含紫外线光源以及反射和透射面罩对准器。光源是机器最重要的部件，波长为365nm或248nm。这些波长使得能够在低紫外线吸收的情况下进行高质量的曝光。遮罩对齐器用于将图样精确暴露在基板上。Q4000 IR拥有由多个组件组成的最先进的成像和控制设备。其中包括分辨率为2.5 µm的高分辨率相机、CCD（电荷耦合器件）图像捕捉系统、任意角度电子对准单元和双轴移动机。机器的控制完全是电子的，由高精度步进电机和特殊的微米级数字控制工具组成。QUINTEL Q4000 IR还提供了一系列附加功能,包括自动对焦、晶片清洗、可编程晶片支架和可调曝光时间。机器的高度自动化允许即时校正，并确保高效和准确的过程。Q4000红外还能够进行急性数值图像处理，从而最大限度地减少失真和边缘效应。因此，该机器适用于一系列制造过程，并用于各种应用。QUINTEL Q4000 IR是最先进的口罩对准器之一，能够保证卓越的质量模式定义和曝光。它具有多种特性和功能,可确保快速准确地生成所需的模式。此掩模对齐器提供了巨大的成本/性能价值,并允许用户从高质量的光刻中受益,而无需投入大量资金。