二手 QUINTEL Q4000 Super Nova #9236254 待售

QUINTEL Q4000 Super Nova是一种口罩对准器，用于精密光刻，使用极端紫外线曝光源创建有图桉的材料。它是半导体光刻领域的先进工具，提供纳米尺度的高分辨率和吞吐量。该Q4000利用高分辨率投影镜头设备实现了精确的图样绘制。这种光学系统由低频光学群、高频光学群组成。低频组包括用于光束初始光学聚焦的长焦距透镜。高频光学组的主要元件是带孔径的飞行变焦、带孔径的炮塔双峰和一个体积反射器，以及一系列的腔室和滤波器元件。这样可以精确调整设备的成像特性,而无需机械运动。Q4000的光源是中功率激光器。这种激光器专长于高效的激光脉冲管理和低线缘粗糙度（LER），产生卓越的成像性能。照明控制机能确保整个晶片均匀的曝光分布精度，同时提供曝光剂量控制。接触剂量由对准工具监测和调整。此资产包括自动对准程序,用于将掩码或标线对准晶片或基板。它能够测量标本定位，减少任何错位，并找到各种可能用于校正的图样特征。该模型还包括一个对准能量监测仪，它使用激光束能量来检测对准精度的任何变化以及可能需要什么校正。Q4000的控制设备提供完全集成的模式控制。通过高分辨率模式编辑、数据去偏斜和高吞吐量自动编写编辑软件,模式编辑器允许使用合成、像素数组和实际存储的模式对掩码和晶圆几何进行编程。这样可以确保使用清晰的边缘和尖锐的过渡来传输阵列的准确性。该Q4000允许严格的过程控制,并为芯片制造行业的阵列制作提供高精度。其高分辨率、吞吐量和能量束控制系统都为其在工业上的成功应用做出了贡献。它为电子元件的创建提供了卓越的阵列性能，特别是在纳米级芯片领域。