二手 QUINTEL Q4000 #293831189 待售
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ID: 293831189
Mask aligner
Mercury arc lamp
Submicron resolution
X, Y Alignment stage
Tray loading
Splitfield / singlefield optical microscope
Topside mask load
Substrate size: 4".
QUINTEL Q4000是为集成电路的高级光刻处理而设计的最可靠、用途最广泛的掩模对准器之一。这台自动化机器提供独特的功能组合,使其成为生产高端半导体元件的理想设备。QUINTEL Q 4000配备了先进的光束压力室，提供精确且可重复的光刻胶曝光。该腔室可承受高达20巴的压力，非常适合先进的高精度工艺，如MEMS和TSV结构保形膜的溅射沉积。光束压力室还装有一个高端石英激光二极管（λ=260 nm），可用于进行精湛精度的曝光过程。集成光学设备采用光谱匹配的光学器件，具有优异的性能和最佳的层均匀性温度补偿。Q-4000集成了一系列通用的基于Cassette的晶圆处理系统,可在压力室内提供精确且可重复的控制距离。机器配备了先进的自动聚焦装置，确保在曝光光刻胶之前将焦点调整到样品晶片表面。该装置融合了世界上最先进的二极管-激光激发式ICP等离子体（DLE-ICP）发生器，提供了可调至多个非线性轮廓的均匀可控蚀刻工艺。这种激光蚀刻方法非常适合现代IC芯片中常见的极其复杂的结构，因为这种蚀刻工艺能够产生极小、深、复杂的结构。对于高级光刻工艺,Q 4000可以与高级Mask-Editor计算机配对,该计算机提供了一种快速简便的方法来转换和生成具有高分辨率图像的复杂光刻数据。蒙版编辑器工具与扁平和圆形蒙版形状兼容,并提供精密的视觉增强工具以确保光刻胶的精确放置。总体而言,QUINTEL Q-4000是当今市场上最可靠、用途最广泛的口罩对齐器之一。它提供了令人印象深刻的功能组合,使其非常适合生产高端半导体元件。
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