二手 CARL ZEISS AIMS 193 #293712702 待售
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ID: 293712702
优质的: 2004
Mask qualification system
Reticle size: 6"
Wavelength: 193 nm
Measuring source: Laser
Stage accuracy: ± 2 µm
Illumination: 1.5%
CD Dynamic repeatability: 6 nm
CD Static repeatability: 4 nm
Throughput: 36 / Hrs
Toxic gas
Sigma aperture
Field stop
Condenser lens
Work table
SCU
Objective lens
CCD Camera
PC
PC cable
Operating system: Windows
2004 vintage.
CARL ZEISS AIMS 193是为半导体工业设计的高精度掩模和晶圆检测设备。高性能光学系统可确保图像极其清晰,分辨率高达0.35 µm,最大图像放大倍率为38倍,因此非常适合要求最苛刻的半导体元件。该单元旨在提供准确、可重复的测量,同时提供最大的灵活性和可扩展性。CARL ZEISS AIMS193机器具有高级检查功能,包括自动位移、缺陷检测、对比分析和线路合规性测试。该工具包括200毫米卡盘,可容纳各种晶圆尺寸。内置软件使用户能够轻松配置资产以满足其特定需求,并包含常见电气缺陷的数据库。它还可用于跟踪产品性能和检测任何工程变更。它还具有广泛的对准方法,可自动将晶片对准卡盘,从而获得最高精度。这样可以确保准确捕获组件的关键区域。自动晶圆检查过程允许用户监控缺陷并快速识别变化。它消除了手动检查的需要,从而实现了更快的生产周期和更轻松的产品开发过程。AIMS 193还配备了一套安全功能，包括一个灭菌模型，如果设备检测到附近的未经授权人员，则会禁用该设备。这样可以防止意外干扰晶片或系统故障。此外，设备可以检测晶片何时损坏，并可以自动暂停当前进程，以防止进一步损坏。总之,AIMS193是一个强大的检测机器,提供卓越的图像质量和精度.它为用户提供了针对要求最苛刻的应用程序的一套全面的检查和配置功能，并提供了效率和安全性的完美结合。
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