二手 CARL ZEISS AIMS 193 #293795556 待售
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ID: 293795556
优质的: 2004
Mask qualification system
Control unit
Reticle size: 6"
Wavelength: 193 nm
Measuring source: Laser
Stage accuracy: ± 2 µm
illumination: 1.5%
CD Dynamic repeatability: 6 nm
CD Static repeatability: 4 nm
Operating system: Windows
2004 vintage.
CARL ZEISS AIMS 193是一款尖端的掩模和晶圆检测设备。它配备了高分辨率的模块化检测系统,使其成为确保用于制造集成电路的光掩模质量最高的理想解决方桉。CARL ZEISS AIMS193配备了F-Theta校正失真补偿器,确保成像光束精确聚焦并对准掩模表面。这样可确保完整地检查掩码,并检测到所有缺陷。光束还具有可调节的光斑尺寸,可根据不同的成像要求提供单元灵活性。该机配备了高分辨率成像光学器件,可检测到亚微米级以下的缺陷。该光学器件设计用于广域扫描和直线空中成像.此功能允许快速准确地检查任何大小或结构的掩模。AIMS 193也有高速范围的曝光设置,允许快速的检查周期。这使得它成为大批量口罩生产线的理想选择。最后,该工具配备了最先进的缺陷检测算法,即使是最微小的缺陷也能识别出来。该算法将使工程师能够比以往任何时候更快速、更准确地识别掩码生产过程中可能出现的故障。综上所述,AIMS193是为要求最苛刻的应用而设计的最先进的掩码和晶圆检测资产。它配备了高分辨率光学器件和强大的缺陷检测算法,使其能够识别到亚微米级别的缺陷。其高速曝光设置使其非常适合大批量的蒙版生产线,为工程师提供了确保最高质量的光掩版生产所需的准确性和灵活性。
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