二手 CARL ZEISS AIMS 193 #9196378 待售
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ID: 9196378
Mask qualification system
With COHERENT LDU ESI 500 Hz, FT, 193 nm
KL2500 LCD Microscope standard illumination system
TUILASER ExciStar S-Industrial V2
HALCYONICS Control unit
PHOTOMETRICS Quantix KAF1400-G1-M, P/N: A97J6002
MARZHAUSER WETZLAR Kg Scan, 260 x 240 MSM, P/N: 90-24-009-0000
XC-73CE CCD Video module
TUI LASER MCB500.
CARL ZEISS AIMS 193是一种用于晶片阵列和缺陷管理的掩模和晶片检测设备。它是一个先进的成像系统，提供半导体掩模和晶圆上图样的亚微米分辨率图像。成像单元捕获掩模/晶片表面的数字图像并跟踪其开发过程。AIMS 193配备了光谱仪、显微镜、狭缝等多种设备。利用这些组件,它能够提供0.1-0.2 um的卓越图像分辨率,最大视野为512x8192。除了成像硬件外，该机还配备了使用户能够管理和分析图像数据的软件。该软件包括一个回溯工具,允许用户跟踪更改值并具有高级映像分析功能。它允许实时审查制造和调整过程。此外,该软件还提供了多种图像处理选项,包括对比度调整、纵横比调整、锐度调整、切片和对象提取。该资产还配备了触摸屏显示器，用于高效导航和设置。它提供了"缩放"、"平移"、"旋转"、"反向"、"色相"、"饱和"、"旋转"、"标签"和图像"编辑"等功能。此外，该装置还能捕捉到金属化特征和缺陷的高分辨率数字图像。然后,该软件可用于分析图像,以验证各种测试结果、3D模型生成、公差和翻译。CARL ZEISS AIMS 193是一种先进的检测模型，旨在检测和监测半导体掩模和晶片上的缺陷。该设备提供了超微米分辨率的卓越成像能力以及用于分析和操作的工具。AIMS 193结合了硬件和软件,是一个有效的缺陷管理、可视化和制造过程系统。
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