二手 CARL ZEISS AIMS 32-193i #9254199 待售
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ID: 9254199
Photomask repair system
For stepper, 193 nm
LITO Grade optics
VIS Microscope
Illumination unit
Interferometer stage
ArF Industrial grade
Excimer laser
Wavelength 193.4 nm
Sigma aperture slider: ~100 Sigma apertures
SMIF, 8"
Handler system
TUILASER ExciStar S-Industrial Laser
Excimer (Argon fluoride)
Wavelength: 193 nm
Embedded laser class IV
Laser class I
Pulsed
Wafer equivalent NA: >1
Numerical aperture range: 0.9 - 1.4 scanner NA
Sigma range: 0.3 - 0.98
Illumination type: circular and off axis
Linear polarization capability
Vector effect emulation capability
Through pellicle capability
Reticle: 6"/250 mil with/without soft pellicle
Stepper reduction: 1:4
Measurement field: 10 x 10μm
Power supply: 400V
2010 vintage.
CARL ZEISS AIMS 32-193i是一种先进的掩模和晶圆检测设备，用于半导体生产。该系统旨在帮助制造商识别和解决其光刻工艺中的潜在问题。检测单元建立在一个33 "x 33"的舞台上，带有一个提供清晰和可重复图像的远心光学机器。它有一个LED照明光谱照明，有助于减少眩光和改善对比度。该工具具有193 nm光圈和高NA光学元件,以及用于高分辨率图像的800万像素摄像头。它有一个自动化的视觉资产，允许快速循环时间和能够高速模式缺陷检查。AIMS 32-193i配备了直观的用户界面，可以方便地访问自动聚焦、模式匹配、线路扫描检查等模型特征。它设计用于高精度和可重复性,错误率小于1%。该设备还配备了先进的图像处理能力，用于检测最小的缺陷，并确保无缺陷晶片。该系统配备了广泛的分析工具，如一套全面的计量功能。计量工具提供有关图桉大小和形状以及迭加和过程均匀性的信息。单位还可以高精度测量晶圆上物体之间的距离。总体而言，CARL ZEISS AIMS 32-193i是一种可靠而强大的检测机，旨在帮助半导体制造商改进其光刻工艺，确保无缺陷晶片。它具有高速模式检查功能,并具有直观的用户界面,便于访问工具功能。它还配备了一套稳健的计量工具，提供对模式、迭加和过程均匀性的详细分析。这一资产对于帮助半导体公司生产高质量晶片和确保其产品符合严格的行业标准至关重要。
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