二手 RUDOLPH Waferview 320 #9223167 待售

ID: 9223167
优质的: 2006
Macro defect inspection system EFEM Load port 2006 vintage.
RUDOLPH Waferview 320是最先进的面罩和晶圆检测设备。它提供了更高的性能、更高的准确性以及最高的可靠性和生产率。该系统使用各种先进的光学和成像技术来检测晶片和掩模上的微观缺陷。Waferview 320利用二维飞行监督检查单元检测从10 µl到亚微米的特征和缺陷特征。它有两个独立的检查阶段,允许同时成像和处理有缺陷的掩模和晶片特征。该机器能够扫描高达25毫米的视野,其高分辨率光学器件适用于大小特征。可以从CCD和CMOS设备将各种掩码和晶圆图像传感器集成到RUDOLPH Waferview 320中。Waferview 320具有多项内置功能,可提高性能和工作效率。例如,该工具配备了实时智能驱动的图像处理器,旨在以最高的效率和准确性发现缺陷。资产还具有自动优化功能,可根据流程目标和不断变化的条件对图像设置进行调整和实时优化。RUDOLPH Waferview 320带有用户友好、直观的界面,远程设置功能使自定义检查设置变得简单。此外,该型号还具有广泛的连接选项,包括USB、以太网、GPIB等。这样可以轻松地与现有客户IT系统集成。Waferview 320设计为晶圆和掩模检查的经济高效解决方桉。它提供了最高水平的生产效率、准确性和可靠性,使其成为当今电子产品生产的宝贵工具。该设备速度快,使用简单,具有先进的功能,使其成为晶圆和掩模检查的高效、可靠和经济高效的解决方桉。
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