二手 ABLE ASS-303 #9156831 待售

ABLE ASS-303是一种用于生产高精度微电子元件的高分辨率、自动化、最先进的光刻设备。光致抗蚀剂系统将光敏感的化学物质暴露在图样或遮罩上，通常是激光刻在标线或薄膜上，然后在开发时产生物理上产生的三维物体。ASS-303设计符合光刻胶工艺的效率、准确性和质量的最高标准。ABLE ASS-303利用激光系统,由1064 nm Q切换固态激光器,加上变焦、聚焦和全光圈图像单元组成,以便对曝光区域进行微调。ASS-303中使用的激光能够在高达150 ng的分辨率下进行高精度曝光，并与精密的控制系统相结合，以实现精确的曝光和精确的反射率控制。ABLE ASS-303还配备了薄膜框架机（FFS）,它是专门为最大限度地提高曝光过程的精度和精确度而设计的。该FFS是一种精密定位工具，精度高达3微米。FFS为操作员提供了在标线或薄膜中精确定位激光曝光区域的能力。此外,FFS还通过控制快门速度来优化曝光时间,以确保大型生产运行的均匀性,并最大限度地减少出错的可能性。最后,ASS-303提供了一系列定制设计的功能,以满足最苛刻的生产运行的需求。这些特性包括集成的激光扫描资产，它允许更高分辨率的曝光，更精确的点束控制，以及能够以极高的精度定义曝光区域。此外，ABLE ASS-303还提供各种分析工具，包括统计分析工具、光掩模检查模型和自动曝光设备。总体而言，ASS-303光刻系统为制造高质量的微电子元件提供了一个精密、高精度的单元。机器的特性保证了该过程以最高的精度和效率进行。此外，ABLE的先进功能ASS-303使其非常适合工业和科学用途，为帮助生产最先进的组件提供了可靠的工具。