二手 ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M1 #293657910 待售

ID: 293657910
晶圆大小: 6"
优质的: 2019
Spin Rinse Dryer (SRD), 6" 2019 vintage.
ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M1是一种先进的光刻胶自旋系统,旨在将薄膜光刻胶精确地沉积在半导体基板上。该自旋装置有一个大型液体容器,用于散装光刻胶和一个基于卡片的控制机器,使用户能够快速准确地在基板上生产光刻胶薄膜,而无需任何体力劳动或错误。ASSI SV-702 M1可同时在陶瓷卡盘上容纳多达8个基板,提供可重复和可靠的薄膜沉积,并具有多种常用的光刻胶介质。电机和支持硬件单元经过设计和测试,以确保低噪声、高效运行,并具有多变速控制设置,可用于每个基板,从而实现精确的涂层厚度和均匀的旋转。光敏沉积工具配有一系列的外围工具,以协助精密的薄膜沉积。仔细校准温度控制确保精确的光敏粘度为所需的基板性能。热调节的蒸气和基材干燥设备可以为各种应用提供优化的干燥时间。该模型还包括一个精确的针头气流设备,有助于实现更高的旋转速度和提高膜均匀性。自动计量软件预装,使用户能够在光刻沉积过程中快速、轻松地监测薄膜厚度和其他关键参数。ADVANCED SPIN SYSTEM INC SV-702 M1还通过一系列用户定义的参数提供安全联锁支持,提醒用户任何潜在的不当使用或潜在的危险情况。人性化的图形用户界面使得各种薄膜沉积参数如自旋速度、温度和气流都易于编程和监控。此外,可移动对齐夹具简化基板放置,从而提高整体旋转单元精度和精度。SV-702 M1是一种多用途、可靠的光刻自旋机床,其设计保证了最高的精度和精度,同时提供了安全的操作和可靠的薄膜沉积。使用此工具,用户可以轻松在各种基板上生产具有可重复性能的薄膜光刻胶,而无需任何体力劳动。
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