二手 ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 M2 #293650591 待售

ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702 M2是为半导体晶片和基板的精密自旋涂层而设计的光阻系统，精确度为亚微米级。该单元包括大型机、前端控制器、上下自旋盘组件、晶圆载体和预置工艺参数的亚微米精度自旋涂层。上部自旋平底锅精确控制光刻胶高速沉积，即使在具有挑战性的环境中也是如此。聚乙烯顶盘悬挂在精密轴承组件上，可提供高达0.002mm直径的平滑旋转和精度。它与微调步进电机集成，允许精确的旋转速度和均匀的旋转涂层。较低的自旋平底锅设计用于精确传递光敏液体。它的三轴设计允许对沉积路径进行精确、精细的调整，从而能够精确覆盖晶圆并实现精确控制。其高精度轴承和先进的后端控制器，使液体的沉积能够在平面上以一定角度精确调节，对控制光刻胶层的厚度和均匀性都有帮助。晶圆载体的设计是为了安全地保持和运输晶圆，同时保持其清洁。坚固、轻巧的铝制框架和四个角棘轮确保晶片牢固地锁定在适当的位置,并且晶片托架牢固地连接到主机上。精密控制软件可以方便地设置和调整机器，允许自动化和可重复操作。它具有图形用户界面和广泛的自定义参数,例如自旋速度和自旋方向,以及上下自旋平移尺寸的设置。ASSI SV-702 M2提供了对光刻自旋涂层工艺的精确控制.可实现亚微米精度精密旋转涂层，并可定制紧参数以达到一致的涂层效果。它是一种经济高效、可靠、精确的半导体光刻胶工艺应用工具。