二手 ADVANCED SPIN SYSTEM INC / ASSI SV-702 #293601652 待售

ID: 293601652
晶圆大小: 2"-6"
Spin Rinse Dryer (SRD), 2"-6" Electro-polished stainless chamber Maximum speed: 2,800 RPM Rinse and dry time: 0-9999 sec On-Board N2 Heater N2 Filter Anti-static cell Resitivity Monitor (RM) SDC-01 Controller Door seal lock Thermo sensor Pressure switch Human Machine Interface (HMI) Pre-heat N2 setting Throughput: 300-2400 Wafer an hour (2") Uptime: >95% Option: Manual door EPO Emergency off switch.
ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702是一个最先进的光刻系统,在处理关键任务组件时提供无与伦比的精度和性能。这台机器的设计目的是自动沉积一层可使用光刻技术精确制图的薄薄的光刻胶。其先进的旋转电机,集成的晶圆对准特性,以及高分辨率的数字显示,在自旋涂层过程中准确监控光刻胶的应用。该单元配备了全方位的DI和DC尖塔源,允许完全定制以满足每个用户的确切需求。ASSI SV-702提供了一系列功能,可确保无瑕疵沉积和光刻涂层。其中的一个特点是它的精密晶片对准,允许光刻胶在晶片表面的精确定位。这台机器消除了意外失准的机会,并确保光致抗蚀剂均匀准确地应用于晶片表面。该工具还具有对旋转速度的卓越控制,允许用户保持理想的旋转速度以保持理想的涂层一致性。此特性可确保光刻胶在晶片表面精确均匀分布,从而使涂层厚度精确到1微米以内。此外,ADVANCED SPIN ASSET INC SV-702的设计旨在在整个晶圆表面实现涂层内的卓越均匀性。这是通过使用双流旋转电机来实现的。该电动机以最佳速度仔细均匀地旋转光刻胶,而精密散热器均匀地分配热量。这样可以确保光刻胶温度保持在一个均匀的水平,从而保证沉积厚度的均匀性。该型号还提供了与各种光刻胶的灵活性和兼容性。这使得用户可以毫不费力地选择最适合自己特定应用的光刻胶。SV-702还配备了高分辨率的数字显示屏,可实现更高的精度和更好的涂层编程可视化。总体而言,ADVANCED SPIN Equipment INC/ASSI SV-702是一种最先进的光刻系统,在处理关键任务组件时,可为用户提供无与伦比的精确度和精确度。其先进的特性、广泛的兼容性和高分辨率的数字显示使其成为满足光刻处理需求的理想解决方桉。
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