二手 ALLIED SIGNAL ElectronCure 30X-150-A-II #167086 待售
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ID: 167086
E-beam photoresist curing system, non-operational
Electron beam exposure system capable of exposing large area substrates uniformly at precision dose for curing coatings and hardening photoresist
Variable beam voltage 0-30 KV in 100V steps
Computer controlled, fully automatic
3" to 6" round wafers
4" x 4" square plates
Operates at 55 millitorr vacuum
De-installed.
ALLIED SIGNAL ElectronCure 30X-150-A-II光刻设备设计用于电子包装基板的精确热处理,包括多层板、IC封装和铅架订单。它利用基于专有树脂的先进光化学，结合精确的温度和曝光设置，取得优异的效果。该系统具有双面曝光功能,加热和冷却选项最高可达150 °C。它能够在功能小至2毫升（50 µm）的基板上制作标准和定制图像。该机配备了先进的成像单元，如基于PC的高级模式发生器、半色调蒙版、二进制蒙版和线条艺术设置。先进的直接成像技术可以极精确地调整曝光时间和强度。温度控制单元在基板两侧保持精确的温度范围，并热控制暴露过程，在厚度、纹理和特征各异的基板上产生优异的效果。ElectronCure 30X-150-A-II为复杂的电路板和封装提供卓越的分辨率和高清成像。该机器具有先进的多功能性，例如：自动可重复性、均匀曝光和易于使用的操作员控制。整个机器设计可靠，可重复曝光和长期稳定。机器的另一个重要特点是抗除气。除气是处理IC封装和铅架等半导体元件时常见的问题。放气会影响光刻胶线定义的质量，造成特征缺陷。ALLIED SIGNAL ElectronCure 30X-150-A-II提供了较低的除气速率以提高可靠性。总体而言,强大可靠的ElectronCure 30X-150-A-II光刻胶工具非常适合需要高精度热处理的商业、工业和研究应用。它提供了广泛的曝光速度和温度，以达到最佳的分辨率和准确性。该机还提供了良好的工艺重复性和抗除气可靠的结果。
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