二手 ALLTEQ 1520 #9312394 待售

ALLTEQ 1520是由ALLTEQ Materials设计用于半导体製造过程的光刻胶设备。该系统设计用于与多种光刻胶配合使用，从无水到正色调的光刻胶，用于沉积和显影抗蚀剂薄膜到半导体器件的基板上。该单元由一个控制单元和几个硬件组件组成，它们共同为生产光刻胶薄膜提供了必要的工具和功能。硬件组件包括写字室、显影室、等离子蚀刻室和光掩模支架。1520的控制单元提供了机器的高级控制，允许精确调整暴露时间、开发时间、开发解决方桉、等离子体蚀刻时间等参数。控制单元还允许对流程参数进行精确监控，以确保流程平稳高效地运行。为了产生光敏胶片，首先将光掩模放置在光掩模支架中。接下来，将光掩模支架放置在书写室中，并放置在基板上方。然后将紫外线辐射引导到光掩模上，使底物暴露于光中，并引发光化学反应，在底物上产生光致抗蚀剂膜。一旦薄膜被创造出来，光掩模支架就会被移动到显影室中，并在指定的显影时间内被淹没在显影溶液中。最后，光掩模支架被移动到等离子体蚀刻室中，以便蚀刻掉基板上任何暴露的光致抗蚀剂区域。ALLTEQ 1520是一种高效的光刻胶工具，为半导体製造过程生产高品质的光刻胶膜。控制单元在过程控制方面提供了极好的灵活性和准确性,而硬件组件使用户能够快速高效地生产抗蚀膜。1520是半导体制造工艺的理想光刻资产.