二手 AND ASP-2000LX #9375096 待售

和ASP-2000LX是一种标准的光阻设备，包括一个先进的光成像系统（APS）和一个激光曝光单元（LEU）。光敏材料是一种光敏材料，用于制造电子元件和微电子学。ASP-2000LX是在晶圆表面上绘制复杂抗蚀剂图样的理想解决方桉。这种光致抗蚀剂单元提供了一种快速、准确的方法，以高精度和可重复性的方式来绘制晶片。该机配备了400万像素的USB2摄像头，可提供良好的图像分辨率和出色的曝光精度。用户最多可以选择六种最大尺寸为5.5x6.8英寸的光学掩码,以实现柔性掩码模式。AND ASP-2000LX配备了波长变化从532到1060 nm的高性能激光源。激光将抗蚀剂图样暴露在晶片上，具有2 µm ±的良好重复性和10 µm以内的紧密配准控制精度±。该工具还提供各种曝光模式，以容纳不同的晶片。激光是高度可配置的,并且可以针对单曝光和多曝光设置进行预编程。ASP-2000LX还具有处理单元（如Expose、Development和Align等）的无缝集成功能。The Expose unit is used to apply a thin minic of photoresister on the wafer surface."开发"单元用于使用化学药品去除暴露的光刻胶,"对齐"单元用于检测晶圆与掩模之间的对准误差,以确保曝光精度。与传统的光刻工艺相比，这种光刻资产具有多种优势。该型号紧凑,允许快速设置和拆卸时间。工艺可以在15分钟内完成，晶圆表面质量与激光光刻相比有了很大提高。ASP-2000LX抵抗和开发不同的材料和尺寸，使其成为一个多用途，灵活的设备。此外，该系统不需要额外的化学品，而且能够自动生产。ASP-2000LX是一个可靠的，标准的光阻单元，非常适合复杂的，高精度的抗蚀剂图案。它提供快速的安装、高分辨率、出色的可重复性和自动化的生产能力。它既适用于小型和大型晶片，也可用于创建高精度的广泛复杂模式。