二手 APET FCL-0119 / NEO 2000 #9184969 待售

NEO 2000 APET FCL-0119是一种光刻设备，由旋转涂层、K751-X热板和晶片对准组成。该系统设计用于半导体应用的最佳光刻沉积和晶圆对准。NEO 2000 APET FCL-0119的自旋涂层由一个集成的自旋涂层站组成，设计用于光刻胶溶液的高精度自旋。它配备了一个网页驱动马达，可以精确控制旋转速度和加速度。自旋室通风，用可调节的温度和湿度传感器控制，提供一致的沉积环境。K751-X热板是一种可靠、高效、低热的热板，用于确保光刻胶膜在基板上的准确熔化和扩散。温度保持在其预设值的0.1°C以内。它具有一个集成的工作站，用户友好的界面和精确的微电动机驱动器与低噪声操作。晶圆对准是近地天体2000APET FCL-0119光刻装置的重要组成部分。这是一种高度精确、低噪声的矩形结构设计，可以在自旋涂层沉积过程中精确对准和配准晶片。这有助于用光敏膜完全覆盖晶片表面，从而减少光敏均匀性的变化。近地天体2000APET FCL-0119光刻机为跨半导体器件的高精度光刻涂层提供了一个全面、集成的解决方桉。该工具简化了工艺，确保光刻胶均匀沉积在基板上，并最大限度地减少了光刻胶均匀性的变化。集成的用户界面允许快速有效地对准和调整自旋涂层沉积参数和晶片，以确保最佳沉积质量和可重复性。