二手 APET NEO 2000 #9198056 待售

APET NEO 2000是专为半导体工业而设计的光阻设备。它是一种化学放大的正音光刻系统，对短而深的紫外线（UV）辐射高度敏感。APET NEO-2000提供低温处理功能,使其成为温度敏感设备的理想抵抗装置。常用于各向异性干蚀刻工艺。NEO 2000由光刻剂显影剂、蚀刻溶液和酸三部分组成。光刻胶显影剂是一种化学溶液，用于覆盖晶片表面。这种显影剂的主要成分是聚乙烯酚（PVP）和一种酸性盐。这种溶液使光致抗蚀剂在暴露于紫外线辐射下成为反应性的。蚀刻溶液是含有一定比例的酸和缓冲液的化合物。加入酸和缓冲液可以在晶圆表面上蚀刻薄膜。机器中使用NEO-2000酸是盐酸。这种酸溶解暴露在紫外线下的光刻胶，使蚀刻溶液可以接管并蚀刻薄膜在晶片上。APET近地天体2000工具需要紫外线或深紫外线辐射源。这种辐射源用来暴露光刻胶在晶圆表面上创建图样。这种辐射源通常位于真空中，必须控制温度才能使反应有效。由于其出色的分辨率和低温处理，APET NEO-2000被广泛应用于半导体行业。它是一种经济高效的方法来产生复杂的结构具有出色的分辨率和细节。NEO 2000是半导体工业的宝贵工具。它具有低温处理和优异分辨率的特点，非常适合制造复杂的结构。NEO-2000非常可靠且经济高效,是半导体行业中任何人的明智选择。