二手 APT 3025 #49738 待售
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ID: 49738
晶圆大小: 12"
Auotmated Single wafer spin coater, 12"
Used for photoresist and polyimide
Unit has programmable cycles
Unit has a robot to load wafers from a cassette
Automatic coating of up to 12" round substrates (wafer)
Footprint is approximately 3'x5'
Stainless steel frame and stainless steel skins
Robotic handling system for pick-and-place substrate handling
Direct drive brushless servo motor with spin speed control of 50-3500 RPM
1% (max. speed dependent on substrate mass)
Metal process chamber with removable polypropylene process insert
Selection of up to 3 different dispense systems
Programmable dispense arm for static dispensing
Removable polypropylene process cup
Fluid and pneumatic control panel for flow control, pressure control and valves
Microprocessor controller based on STD bus system for 99 programmable recipes
Alphanumeric LCD display unit with 4 lines x 40 characters
Menu driven software including diagnostics
Photo resist Dispense System consisting of:
Cyborpump resist dispense
Filter
Pump Controller
Chuck Cleaning System consisting of:
Programmable chuck cleaning system
Solvent nozzle
Valve
Solvent Canister Kit, including:
Pressurized 2 gallon solvent canister
regulator
Filter
Valve
Maximum pressure for N2 = 60 PSI
As-is.
APT 3025是一种高性能的光阻设备，设计用于制造半导体工业中的集成电路（IC）组件。它是一种先进的蚀刻系统，利用光刻涂层作为金属层和基板层之间的保护层。这种光致抗蚀剂层被设计成能够吸收和保持通过设备的光子，从而在基板层和金属层之间提供一个屏障。3025光敏装置由三个不同的组成部分组成：光敏涂层、基板传递机和紫外线光源。光敏涂层是一种特殊的材料，能够吸收可见光，从而可以精确地形成线条或形状的图桉。然后在基板传递工具的帮助下，该层以均匀的方式转移到基板上。紫外线光源用于用紫外线照射光敏层，使线条和形状被蚀刻到基板层中。APT 3025资产利用多种组件来确保光刻胶层具有最高质量和最高完整性。例如，基板传递模型被设计为用特殊的化学处理处理光刻胶层，以确保光刻胶层是均匀的，没有任何瑕疵。此外，紫外线光源经过专门设计，可以为所需的任务提供最佳的辐射量。在半导体工业中，精确度和精确度是生产高质量IC元件的关键因素。3025光刻胶设备是为满足这些需求而设计的，因为它可以使光刻胶层的放置和蚀刻极为精确。这种最先进的系统能够以非常细的线条和极高的特征清晰度创建复杂的图桉,从而在制造过程中提供非常高的精度。APT 3025还包含了其他一些高级功能,使其能够执行的任务不仅仅是蚀刻。例如，它还配备了一个抗蚀剂剥离装置，用于去除蚀刻过程后遗留下来的任何多余的光致抗蚀剂。此外,它还能够进行模式优化,以便能够适应任何给定的应用程序。此外,诸如可变扫描头速度和可变曝光时间等功能使流程能够根据每个项目的具体需求进行定制。总体而言,3025光刻机是一种功能强大且高效的工具,可用于精确、精确、高效地制造IC组件。其先进的特点，如抗蚀剂剥离工具、可变扫描头速度和可变曝光时间，使得它成为一个极具灵活性的资产，可以为轻松执行各种任务进行优化。凭借其能力，该模型是半导体行业的宝贵资产，在未来几年肯定会成为制造领域的重要组成部分。
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