二手 ASML XT 1900Gi #9401777 待售

ASML XT 1900Gi是为制造微芯片而设计的高性能光刻工具。它是最先进的光刻设备，最大成像分辨率为250纳米。该系统采用超短紫外线激光器，以及一套先进的工艺控制和测量协议，使其能够快速准确地曝光光刻胶和其他材料，从而在基板上形成错综复杂的图桉。ASML XT:1900GI能够使用多种材料，从传统的有机光刻胶到更现代的合成纳米晶体和块状共聚物光刻胶。该单元由浸入式光刻平台组成，配有用于模式对准和配准的先进视觉机。对于掩模对准，XT1900 GI使用高级结构光成像工具，在曝光期间连续监视和调整掩模位置。资产还利用广阔的视野摄像头，可以查看整个基板区域，从而能够精确定位和监控小特征。此外,XT:1900GI还包括一个先进的光刻工艺控制模型,使用先进的建模和模拟功能,可确保高图像精度,即使材料不同。该设备还能够通过先进的计量系统快速进行晶片对晶片的重整和监测过程波动。该单元还具有一个集成的自动化平台，具有管理光刻工艺的硬件和软件控制的高级框架。这使得机器能够快速、轻松地与其他流程设备和远程系统集成，如自动化分析系统，延续小型化的趋势，提高工具的吞吐量。ASML XT1900 GI是现代半导体晶圆厂可靠、准确、高效的新型光刻资产。它用途广泛，能够精确加工各种材料，分辨率甚至能够产生最复杂的图桉。结合先进的过程控制和自动化功能,XT 1900Gi是寻求最高质量和产量的芯片制造商的绝佳工具。