二手 ASYMTEK C 341 #9225861 待售

ASYMTEK C 341光刻设备是用于各种产品和工艺的高精度可重复分配和涂层的理想解决方桉,如晶圆表面和亚微米薄层上的镀银和镀铬。它以亚微米分辨率提供高精度、可重复和精确的光刻胶分配。C 341系统使用一种独特的分配技术，称为"冷喷雾"（Cold Spray），将光致抗蚀剂精确地涂在基板上。这种方法采用冷喷技术，在极低的温度下分配光刻胶，从而对光刻胶涂层的厚度进行精确的控制。冷喷法还允许精确控制由基板条件引起的任何光致抗蚀剂的边缘偏转。ASYMTEK C 341单元使用独特的空气喷嘴将抗蚀剂带到基板表面，消除基板与喷嘴之间的接触，从而消除对基板或任何其他产品可能因喷嘴接触而暴露的任何潜在物理损害。此外,C341机具有延迟时间设置、速度控制和各种振荡等先进的定时和控制功能,可在最小的过喷雾下提供光刻胶的精确分配和涂层。这样可以确保光刻涂层的质量和均匀性。此外,该工具的自我诊断功能确保了可重复和可靠的性能,从而降低了监控和维护的要求。ASYMTEK C 341资产提供了高级级别的过程控制,可用于各种应用程序,包括原型设计、打印、掩蔽、装配和步骤重复装配。这种灵活性允许使用相同的高精度可重复性来处理最广泛的组件。此外,该模型对用户友好,可以以最短的设置时间和精力集成到现有流程中。C 341光刻胶设备是一种成本效益高、精度高的光刻胶在基板上的应用工艺。凭借其广泛的应用和先进的控制能力，它非常适合小规模和大批量生产。