二手 BOSCIEN Customized #293652320 待售

BOSCIEN Customized是专门为半导体器件制造应用量身定制的光刻设备。该系统具有高精度和重复性，是高批量生产工艺的理想选择。它的工作原理是将化学涂层转移到设备基板上。这种化学涂层，又称光致抗蚀剂，对光敏感，当暴露于投射到基板上的图像时，作为转移材料发挥作用。该单元由几个组成部分组成,这些组成部分协同工作以获得精确的结果。机器包括一个光刻工具，一系列光源将图像投射到基板上，以及专有的BOSCIEN光刻材料。化学涂层首先施加到晶片上，然后暴露在光源和投射到其上的图样上。光致抗蚀剂的工作原理是改变暴露在光源下的化学性质，并作为向底层材料的转移掩模。光源将图像投射到光刻胶上,在光刻胶上创建图样或"遮罩"。光致抗蚀剂的化学成分被设计成对某些光波长有反应，允许对过程进行精确的控制。暴露后，用化学显影剂溶液开发基材。此过程除去剩余的不需要的光致抗蚀剂。随着开发过程的完成，基材现已准备好进行沉积或蚀刻过程。Customized photoresist tool的另一个主要优点是，它可以与多种不同的化学成分一起使用，在基板上创建多种图桉设计。总之，BOSCIEN Customized photoresist asset是一种专门为半导体器件制造而设计的精确、可重复、可靠的模型。设备提供必要的工具和材料，以达到预期的效果。对于任何需要精确控制和可重复性的生产工艺来说，这是一个很好的选择。