二手 BREWER SCIENCE CEE 100CB #293620102 待售

BREWER SCIENCE CEE 100CB是一种先进的多组分光刻设备,专为一系列光刻应用而设计。光致抗蚀剂是通常用于在半导体、MEMS/NEMS和显示器等应用上开发图样的材料。BREWER SCIENCE CEE 100 CB是一种用于光致抗蚀剂应用的正音环氧化物溶液。适用于平面和3D表面的低温光刻。该系统的组分包括一个novolac环氧化物，一个Schiff碱胺和一个无色表面活性剂。Novolac环氧化物具有出色的耐蚀刻性能和光速稳定性,可精确控制蚀刻轮廓。此外,CEE 100 CB的低热吸收率可防止表面变形。Schiff碱基胺被用作光酸发生器，以进一步增强图样的分辨率。无色表面活性剂通过增加抗蚀剂的光速提高了对暴露结构的识别。CEE 100 CB的光敏度位于230-270 nm的范围内，允许该单元与i-line、G-line和KrF曝光源配合使用。此外，光致抗蚀剂可以开发与水溶剂或溶剂溶液取决于应用。BREWER SCIENCE CEE 100CB非常适合各种高精度应用。它擅长半导体基板、MEMS/NEMS制造、显示测试结构等应用。此外，其良好的边缘清晰度和高分辨率使其成为小尺寸特征光刻工艺的理想选择。综上所述，BREWER SCIENCE CEE 100 CB是一款为光刻应用而设计的正音抗蚀机。其组件提供了出色的蚀刻电阻、光速稳定性和分辨率，而其光敏性使其可以与多种曝光源配合使用。这些特点加上其良好的边缘清晰度和使用水溶剂或溶剂溶液开发的能力，使其成为各种高精度应用的理想选择。