二手 BREWER SCIENCE CEE 100CB #293721279 待售

製造商
BREWER SCIENCE
模型
CEE 100CB
ID: 293721279
Photoresist spinner Temperature control: 300°C with 1.0°C resolution Spin control maximum speed: 6000 RPM (± 5 RPM) Acceleration speed: 30,000 RPM Substrate size: 0.5"- 8" Cee open-faced single-lip exhaust cover Plate missing N2 Purges Utilities: Nitrogen: 35 PSI Vacuum: 25" Hg Drain: 3/4" O.D Spinner exhaust: 1" O.D Hot chuck exhaust: 2" O.D Power supply: 120 VAC, 1500 W.
BREWER SCIENCE CEE 100CB是一种光刻设备,由光刻涂层、活化剂和显影剂组成,用于平板显示器、MEMS和半导体器件等应用中的光刻、沉积和图样制作。光刻胶系统包括BREWER SCIENCE CEE 100 CB光刻胶、CEE 100CBA活化剂和CEE 100CBX显影剂。CEE 100CB光致抗蚀剂是一种水溶性光敏层,在基板上分配或旋转涂层。它环保,为低于1 µm分辨率而设计。CEE 100CBA活化剂用于提高光敏胶的光敏性。它是一种水性A型活化剂,意味着它是非导电的,并且是专门为暴露于波长~ 370 nm的可见光源而设计的。CEE 100CBX显影剂用于在曝光后对光刻胶成像。它是一种碱性水性显影剂,可提供化学机械稳定性,有效清洁光致抗蚀剂的暴露区域。光致抗蚀剂是一种化学放大聚合物单元,提供1 µm的方桉分辨率和≤2mJ/cm2的光敏性。具有良好的附着力、分辨率和边缘轮廓,并且由于其低废弃物成像机理而优化为高产低成本。再者,它提供了较低的化学蚀刻速率,使其适合于生产可用于后续详细图样制作的厚层光刻胶。CEE 100 CB光刻机使平板显示器、MEMS和半导体器件的光刻、沉积和图桉化速度更快、效率更高。此光刻工具提供出色的分辨率和如画的边缘轮廓,并针对设计良好的电路进行了成本和产量优化。BREWER SCIENCE CEE凭借其环保、非导电激活剂、低蚀刻率和高光敏性,100CB为平板显示器、MEMS和半导体器件等应用提供了一种易于使用的光刻资产。
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