二手 BREWER SCIENCE CEE 100CB #9237990 待售

製造商
BREWER SCIENCE
模型
CEE 100CB
ID: 9237990
晶圆大小: 6"-8"
Hotplate / Spinner, 6"-8" Bench top unit 100 Series spinner 1110 Hotplate Spin range: 0-6000 rpm Hot chuck: 10" x 10" Temperature range: 50-300°C PID Control Repeatability: ±5 rpm(1 rpm) Acceleration unloaded: 1- 30,000 rpm/Sec Power supply: 110 V, 50/60 Hz.
BREWER SCIENCE CEE 100CB是专门为光刻工艺设计的综合性光刻设备。它是根据气泡技术进行独特设计的,这意味着它非常有能力生产先进的前沿nannetic设备和先进的3D LP结构。它具有与均匀的聚合物基体均匀反应的光致抗蚀剂化学性能和稳定性。此外,它提供了一个集成的曝光后烘烤过程,并准备使用.该系统利用液体显影剂,有助于保持均匀的显影,去除多余的光敏材料,从而实现精确的薄膜厚度控制。这种光致抗蚀剂装置采用先进的对比度控制设计,有助于生产出质量更高、分辨率更高的薄膜。这台机器还具有很高的溶解度以允许具有较宽暴露纬度的成像。此外,它还具有高达90 nm的高分辨率功能。该工具还具有低暴露能量要求,允许低吞吐量和提高产量。BREWER SCIENCE CEE 100 CB的另一个特点是表面活性剂抑制剂的整体性能所产生的表面平面度提高。这一特性是有益的,因为它能够提高设备产量。而且,这一资产还与多种电介质兼容,支持多种干蚀刻工艺。其聚合物基质的设计是为了确保设计和图像在暴露于极端环境时不会降解,从而产生最佳的薄膜性能。该模型的另一个显着特征是其自旋速度可变性,确保了光刻胶的最高均匀性。它还设计有减少反射和信号损耗的防反射涂层。它还能够支持单模式和双模式过程。此外,它具有良好的配准精度,可确保在大型晶片上进行可靠的模式传输。此外,它被配制成能够抵抗铝和铜互连线路的金属污染,从而提高了芯片的长期可靠性。总之,CEE 100CB光刻设备是一种先进而全面的系统,旨在实现纳米加工和微电子等应用的最佳效果。它具有许多有用的特性,如均匀的开发和高分辨率的能力,有助于生产具有卓越分辨率的高质量薄膜。此外,其聚合物基体和防反射涂层在恶劣的环境中提供了更好的长期可靠性和更高的性能。
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