二手 BREWER SCIENCE CEE 1100 Custom #136934 待售

ID: 136934
Programmable vacuum hot plates for up to 500 x 500mm substrates PID temperature programmer Maximum temperature: 280°C with 0.1°C resolution (10) User programs for bake temperature, time, and bake method Bake methods: proximity, soft, or hard contact Lift frames: fully programmable controlled loading of substrate onto hotplate Auto cooling cycle to speed cool-down.
BREWER SCIENCE CEE 1100是一款定制的光刻设备,专为生产更精细、更复杂的结构而设计。光致抗蚀剂是一种聚合物材料,它被施加在基板上,然后暴露在光线下,以便形成图样和结构。CEE 1100由化学制剂、综合曝光和成像系统以及化学开发过程组成。此特定产品专为最复杂的光刻工作流程而设计。CEE1100的化学制剂由含有三种成分的粘合剂组成;有机膜形成,一种有助于交联的酸性化合物和引发粘合剂聚合的引发剂。这种配方允许快速曝光、高分辨率成像和蚀刻,以及对广泛波长的高灵敏度。综合曝光成像单元由产生正确类型光源的辐射源、聚焦光源的透镜和可调节的关节臂组成,以确保光照强度正确,使光刻胶曝光。此外,它还提供了曝光后光刻胶的图像,允许用户在开发光刻胶之前检查图像质量并进行任何必要的调整。最后,化学显影过程使用酸性显影剂溶解任何未暴露的光致抗蚀剂。这会在曝光机器所产生的曝光光刻胶中留下图桉。开发人员可以制定各种时间/温度协议,使过程与不同的基板和应用兼容。综上所述,BREWER SCIENCE CEE 1100 Custom photoresister tool旨在为用户提供光刻高级功能。它包括一个创新的化学制剂、一个综合的曝光和成像资产以及一个化学品开发过程,以便能够更快和更复杂的曝光、成像和蚀刻过程。借助CEE 1100,用户可以以更高的精度和速度生产出更精细、更复杂的结构。
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