二手 BREWER SCIENCE CEE 2100 #77373 待售

BREWER SCIENCE CEE 2100是一种光阻设备，用于半导体制造，以蚀刻或"开发"微电子器件等产品的特性。光致抗蚀剂系统用于在基板表面创建负图像,以便蚀刻或移除材料以创建所需的形状或图桉。CEE 2100是为生产高价值微电子器件和微结构元件而设计的先进光阻系统。BREWER SCIENCE CEE 2100光刻装置具有真空cha&mbsp； mber、基板支架和晶圆处理机,用于快速、高效的基板装卸。CEE 2100工具还包括一个独特而高效的双级成像组件，它为基板表面提供了最佳的光阻覆盖。光致抗蚀剂剥离器是一种专用工具,用于从基板表面去除多余的光致蚀剂材料,基板清洁剂用于在涂覆光致蚀剂之前清洁基板表面。光致抗蚀剂工艺始于表面活性剂、溶剂和清洁剂用于制备涂层的预处理或预清洁循环。预处理循环之后是涂层循环，用于在基板上涂抹均匀、精确的光敏材料层。光致抗蚀剂随后暴露于电磁辐射中，用于激活光致抗蚀剂，并将所需的图桉印在基板表面上。然后采用曝光后处理，以进一步完善图像。光致抗蚀剂经过硬化和显影，使光致抗蚀剂可以留在基板表面上，同时排除所需的图桉。经过开发后，在湿的化学浴中冲洗各部分，将光致抗蚀剂从基板表面的剩余区域中溶解出来，并留下所需的图样。光刻胶工艺的最后步骤包括曝光后的基材清洗和冲洗，这有助于从基材表面去除残留的光刻胶材料。BREWER SCIENCE CEE 2100资产专为先进的微电子和微结构元件而设计，提供可靠、高效和准确的光刻加工工艺。