二手 BUHLER / LEYBOLD OPTICS SYRUSpro 710 #293741528 待售

ID: 293741528
晶圆大小: 6"-8"
优质的: 2007
Coating machine, 6"-8" Chamber, 700 mm Control system POLYCOLD PFC 672 Cooling system Meissner trap Evaporation shielding set DP250A Oil-free vacuum pump DP80 Single stage screw pump Root pump TPH 2101 Turbomolecular pump with automatic sequence control and interlock Process gas with pressure control (oxygen) Substrate drive Single flat plate substrate holder, 6"-8" Uniformity mask Substrate heater ceramic, 5.2 kW PIAD (Plasma Ion Assisted Deposition Sources) Advanced plasma source Anode tube Tool set LaB6 Cathode (2) Spare ceramic rings Graphite heater Crucible 1- pocket 102/17 for HPE 6 Electron beam evaporator XMS Quartz crystal measurement system (10) Quartz Crystals XMS Dual quartz crystal sensor head Electrical power connection: 60 Hz 2007 vintage.
BUHLER/LEYBOLD OPTICS SYRUSpro 710是为先进半导体制造应用而设计的最先进的光刻设备。这种精密工具是生产集成电路、微处理器、内存芯片等电子设备的关键部件。BUHLER SYRUSpro 710在光刻过程中提供了无与伦比的准确性、可重复性和效率,使制造商能够获得更高的产量和卓越的设备性能。LEYBOLD OPTICS SYRUS PRO 710的核心是其先进的光学系统,它利用尖端技术提供卓越的分辨率和对准能力。该单元具有高性能光源、精确光学和精密的对准算法,以确保光敏材料在半导体基板上的精确图桉。该机器能够实现亚微米分辨率,非常适合生产功能尺寸越来越小的设备。SYRUSpro 710提供了一系列特性和功能,使其成为半导体制造的通用工具。一个关键特点是它具有多波长的能力,允许用户根据所使用的特定工艺或材料的要求选择不同波长的光。这种灵活性使该工具能够适应广泛的应用程序和材料,从而提高其效用和成本效益。除了先进的光学资产外,BUHLER SYRUS PRO 710还配备了精密的自动化模型,可简化光刻工艺并最大限度地减少人为错误。该设备具有智能软件控制功能,使用户能够轻松、精确地对复杂的曝光模式进行编程。这种自动化能力不仅提高了生产率,而且还确保了一致和可重现的结果,这对于大容量半导体制造至关重要。BUHLER/LEYBOLD OPTICS SYRUS PRO 710专为高通量生产环境而设计,具有优化效率和缩短周期时间的功能。该系统包含高速级,用于快速基板定位和曝光,最大限度地减少停机时间并最大限度地提高生产吞吐量。此外,该装置还配备了先进的晶圆处理能力,包括自动化装卸系统,进一步提高了生产力和可扩展性。SYRUS PRO 710的主要优点之一是其可靠性和稳定性,确保在长时间的运行中性能一致。该机设计为在洁净室环境中运行,具有坚固的结构和先进的污染控制功能,以保持光刻工艺的完整性。这种可靠性对于寻求获得高产率和一致设备质量的半导体制造商至关重要。总体而言,LEYBOLD OPTICS SYRUSpro 710为半导体制造中的精密光刻技术设定了新的标准。凭借其先进的光学工具、自动化功能和高通量设计,该资产为生产下一代电子设备提供了无与伦比的性能和多功能性。半导体制造商可以依靠BUHLER/LEYBOLD OPTICS SYRUSpro 710来满足其最苛刻的阵列要求,并以经济高效的方式实现卓越的设备性能。
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