二手 C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I #9133837 待售

C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I是一种工业级光敏加工设备，专为要求苛刻的半导体生产环境而设计。该系统的设计提供了可靠、统一的处理，每次运行最多8626个晶圆，36英寸晶圆尺寸。C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I单元由两（2）个独立的处理室组成，各有各自的控制面板、真空机和光刻生产能力。光致抗蚀剂工具的主要特点是能够为所有加工过的晶片生成均匀且可重复的光致抗蚀剂结果。这是通过两个独立的光刻曝光系统来完成的，这些系统可以在两个相邻或不相邻的晶片上生成相同的图样。每个腔室可单独优化处理光刻胶，最大限度地减少停机时间和成本。此外，腔室还通过软件实现自动化工艺优化，使晶片的可重复生产具有最小的停机时间。这种自动化过程优化进一步降低了生产运行的成本和时间,并提高了晶圆产量。C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I资产具有高达300°C的温度范围和可达10-7 torr的真空模型。设备配有可编程快门系统，提供受控掩模曝光。此功能允许在同一运行中对多个晶片进行单晶片曝光或批量曝光，进一步减少处理时间。该单元还采用了100级清洁台阶技术，其中包括一台车载颗粒监测机。这样就可以对颗粒水平进行最佳控制，并监测污染情况，以确保清洁的工作环境。C&D SEMI 2-TRK:I/8626/36/36/I光刻工具提供了一整套功能,为半导体生产环境提供业界领先的光刻生产。该资产提供了广泛的温度、压力和对光石曝光时间的精确控制。基于软件的流程优化允许以最小的停机时间和成本重复生产流程。该模型的清洁台阶技术进一步确保环境不受污染。有了这种强大可靠的光刻生产设备，制造商可以降低生产高质量晶圆产量的成本和时间。