二手 CALITECH CT-605D #9184176 待售

CALITECH CT-605D光刻设备是一种通用的专业级工具，适用于广泛的应用。它具有一个可移动的光学组件,具有电动胶片舞台和用户友好的软件,可帮助创建遮罩、对准和图层。该单元在各种基材上精确地分配和涂覆光敏材料，并用紫外线能量对其进行固化，使其适合于多种行业使用。CT-605D最多可处理两个4 "x 5"的光掩模或4 "x 6"的金属化掩模，最大处理能力为6 "x 12"的光掩模或10 "x 10"的金属化掩模。该系统具有先进的场景映射和触摸屏操作,可在电影舞台上快速、精确地调整/重新调整掩模。为确保可重复性,CALITECH CT-605D配备了双安全倾斜传感器,可检测任何未对准情况。专业级的光阻装置还配备了先进的光学设计，拥有350-420 nm的扩展波长范围。双区光学设计的目的是使掩模与基板高度精确对准，并具有自动对准光掩模和抵抗膜对准的能力。光学参数设置可调节以获得可重复结果。此外,CT-605D光阻设备还具有一系列可编程的功能,如精确控制曝光时间、超高密膜厚度控制、不同脉冲级别的可变能量和处理时间,以及机器保护机器。该工具还提供了可调整的加工参数,使配方更容易校准到适当的层和材料。该资产非常适合平板显示器（FPD）制造、传感器制造、触摸面板制造、半导体晶圆和介电涂层、微加工和纳米压印光刻（NIL）等应用。先进的设计和固件也使得CALITECH CT-605D适合航空航天相关应用，例如制造先进的光学组件、MEMS和纳米技术。