二手 CANON CDS-650 #9111494 待售

CANON CDS-650光刻设备是高分辨率半导体晶片开发的领先技术。该系统结合光阻（PR）和光刻技术在半导体基板上沉积可变厚度的PR膜。CDS-650光敏装置特别适合于半导体的生产和研发应用。CANON CDS-650 Photoresist Machine配备了模块化抗蚀器站,该站由Spin/Developer模块和Exposure模块组成。Spin/Developer Module包含配有电动旋转涂层和气泡的旋转涂层,并具有数字温度、RPM和计时器控制功能。曝光模块容纳了光刻曝光，这些曝光完全封闭，以减少散热和环境温度对抗蚀剂的影响。CDS-650直观的软件界面便于直接操作流程参数，使用户可以轻松选择并精确调整设置。这样就不需要外部控制系统或复杂的设置。一旦设置了所需的参数,工具便会加载数据集,自动配置所有进程参数,然后管理整个进程以提高批之间的一致性。CANON CDS-650还具有图像分析资产,无需手动目视检查抗蚀剂配置文件。该模型采用了一系列抗蚀剂图像,并自动分析了抗蚀剂的高度、方向、厚度和均匀性,从而能够快速确认特性并改进对整个过程的控制。除了Spin/Developer Module和Exposure Module之外，CDS-650 Photoresist Equipment还配备了抗蚀剂就绪存储和存储补偿晶圆传输系统，从而提高了设备的生产率。这种晶圆转换机有助于实现最佳的阻抗再分配和沉积策略,以及快速重新启动晶圆和存储隔间以最大限度地提高吞吐量。CANON CDS-650 Photoresist Tool提供卓越的吞吐量和最大的薄膜厚度覆盖范围,提供精确的晶圆生产,符合行业最高标准。凭借先进的技术和直观的用户界面，CDS-650光刻资产非常适合生产高分辨率半导体晶片。