二手 CARL ZEISS ZBA 21 #9208417 待售

CARL ZEISS ZBA 21光刻设备是一种先进的抵抗系统,具有业界领先的精确成像聚焦深度。该单元优化了从先进基板到特殊应用的广泛光刻应用，并与选定的曝光波长兼容。它采用基于计算机视觉技术的自动视觉机和CCD相机，非常适合研发和制造。此功能支持高精度对齐控制和自动聚焦优化。此外,该软件还能够智能地调整基板类型、层厚度和其他可能影响刀具性能的特性。ZBA 21的工艺速度高达每小时650个晶圆，XY方向重复精度为3 µm，6英寸晶圆的精细螺距能力为15 µm。其曝光波长范围为157nm至400nm，进一步优化了设备性能提升、迭加配准等生产要求的资产。此外，光刻胶模型以其先进的技术能力如可调光谱功能提供了更好的均匀性和线宽控制，允许用户根据自己的特定需求选择和调整合适的曝光波长。其动态成像技术还使用户能够优化从深到浅的成像模式。CARL ZEISS ZBA 21结合高精度成像技术和自动化功能，为用户提供具有针对性功能的卓越光刻性能。它的软件界面设计、数据分析和自我诊断进一步允许用户简化工作流程并自信地做出决策。这使得它成为广泛参与的绝佳选择。