二手 CEE 150CB #9147039 待售

CEE 150CB是一种高质量的光阻光掩模设备，设计用于生产高质量的微光刻结构。它是一个由光敏乳剂和光敏光敏乳剂组成的两部分系统。光敏乳剂含有溶剂、添加剂、粘合剂和光敏化合物（PAC）的溷合物。光敏乳液由四种不同的光敏材料组成。当暴露在光线下时，这些材料与PAC反应，在基板的顶部形成一个光致抗蚀层。光刻层用作光刻过程的掩模。曝光后，使用光刻机在光刻层中创建蚀刻结构。光致抗蚀剂层用溶剂去除，只留下所需结构的蚀刻特征。150CB的光敏乳液在光刻过程中提供高灵敏度、优异的附着力和出色的分辨率。这使得该单元适合多种光刻应用，包括半导体器件制造、光纤通信、薄膜显微传感器。利用CEE 150CB机的高质量乳剂，使光刻胶层的制备更加容易，因为光刻胶层高度均匀且无缺陷。这样可以保持蚀刻机构的清洁，保证高质量的效果。最后，150CB工具的高灵敏度光敏乳剂也保证了低拥有成本，因为整个光刻过程只需要少量的曝光时间和光刻胶。这使得它非常适合小型应用程序,因为预算是一个重要的考虑因素。总而言之，CEE 150CB是一种可靠的光阻光掩模资产，以合理的价格提供高质量的结果。适用于各种光刻工艺，为微光刻结构提供了一种通用的解决方桉。