二手 CEM 1800ES #9309472 待售

CEM 1800ES是一种设计用于精密工程的高度先进的光刻设备。它是一个通用的交钥匙系统，结合了先进的光学和计算机控制的精确和一致的光刻结果。1800ES设计用于生产具有超精确对准、配准、分辨率和覆盖能力的高分辨率光掩模。这些掩模可用于集成电路和电子元件的高分辨率成像。该单元具有先进的opto机械元件和软件,可对阵列制作过程进行精确控制。这台机器有一个线性步进器，用于高分辨率成像，每三层1800转以上。扫描字段确定要成像的阵列的最大字段。扫描字段由多个子字段组成，可针对不同的模式要求单独编程和优化。CEM 1800ES与可溶性、负音、氮化硅上的铝、电子束抗蚀剂等各种光刻材料兼容。它还有一个控制气溶胶的真空工具。1800ES的一个独特特点是其快速曝光周期。它可以在单个曝光周期内执行多达24个阵列层,同时保持高达2微米的对准精度。资产具有可调的聚焦深度,有助于确保最高质量的图像。它还具有可调节的聚焦位置,非常适合成像处理器和晶圆级封装。该模型具有基于Linux平台的强大控制器，并提供一系列模式功能。曝光时间、曝光剂量、步进速度、对准精度、聚焦深度等参数都是可编程的。CEM 1800ES光刻设备是精密工程的有力工具.它提供了广泛的特性和功能，使其成为精密设计集成电路和电子元件的理想选择。其快速的阵列周期、可调节的聚焦深度以及先进的光机械元件，使其成为一个高度通用的系统，适用于各种应用。