二手 CHEMALUX 100 #9231353 待售

CHEMALUX 100是业界领先的光刻设备,专为生产具有微米精度的高清图样而设计。该系统结合了正光抗蚀剂的性能和与各种成像仪、激光直写器和电子束扫描仪兼容的化学特性。由于处理步骤简化、用户友好和环境友好，这类抗蚀剂系统是开发用于各种电子应用的高分辨率模式的首选材料。100是一种由光敏抗蚀剂、显影剂和剥离器溶液组成的正光抗蚀剂单元。光敏抗蚀剂是一种光敏材料，由溶液中的化学物质溷合物组成，当暴露在光线下，形成一种不溶性的聚合物材料，作为保护层，防止进一步蚀刻。显影剂是溶解暴露的感光层的强碱性溶液，而剥离器是去除未暴露的感光层的非溶剂溶液。该机的设计具有多种先进功能,可提高阵列制作过程的性能、准确性和效率。首先,刀具的光敏抗蚀剂具有较低的溶解速率,在蚀刻过程中保持稳定,即使使用高温也能实现精确的图样复制。其次，抗蚀剂还具有很高的分辨率，能够产生尺寸缩小到几微米的图桉。例如CHEMALUX 100适合产生0.5 μ m X 1 μ m的图样。最后，利用图像反转技术优化了抗蚀剂资产的图样，在这种技术中，正图像可以很容易地反转成相应的负图像。总体而言，100是一种高性能的光刻胶模型，便于快速、精确地为各种电子应用制作高分辨率图样。该设备的先进特性和易于使用的工艺，可实现精确的图样制作，使用户能够制作出微米精度的图样，成为光刻系统的首选。